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システムBとの併用も問題ないアントニス:私はシングルコーンを用いたContinuous Wave CondensationTechniqueを使って根管充填します。寺内:それは、常に根管壁をM T Aフィラペックスでコーティングしてシングルポイントを挿入し、システムBで加熱充填ですか?アントニス:ええ、M T Aフィラペックスを塗布しシングルポイントを挿入し適合を確認後加熱します。システムBのプラガーでガッタパーチャポイントを加熱加圧充填します。寺内:それでは、システムBの温度設定は何度ですか。アントニス:私は2 0 0℃で使用しています。寺内:なるほど。この材料は200℃に耐えられますか?アントニス:ええ、実際のところ200℃に設定し、ガッタパーチャに加熱しても根尖部分のシーラーへの温度伝達は限られており、Warm CondensationTechniqueによる影響としてシーラー内部の温度が8 0℃を超えることはありません。※寺内:え、そうなんですか?アントニス:実際のところシステムBの電源を入れて設定は2 0 0℃だとしてもそれはプラガー周辺のみのことで、ガッタパーチャポイントの根尖側では80℃以上になることはありません。なので硬化する際の加熱充填温度はあまり関係がないのです。寺内:それでは加熱充填時の温度はM T Aフィラペックスの硬化に影響を及ぼさないということですね。アントニス:そうです。加熱充填時の温度はM TAフィラペックスの硬化に影響しません。多くの論文で報告されています。多くのシーラーがありますが、M T Aフィラペックスは温度に影響を受けないシーラーなのです。また、先生方に本当に注意していただきたいことがもう一つあります。ミキシングパッド上に水分がないようにすることです。M TAフィラペックスは水分に対して非常に敏感なので練和後のシーラーは必ずガラス製の皿に移してください。寺内:ガラス練板をお使いですか?アントニス:使っています。ガラス練板がベストでしょうね。MTAセメントとの使い分け寺内:どのような症例がM T Aアンジェラスに適していますか?アントニス:MTAアンジェラスとMTAフィラペックスとでは適応症が完全に異なります。ファイルサイズが60番手症例術前術後術後3ヶ月右上第二小臼歯のX線写真。大きな根尖透過像を認める。根管数は2根管で根尖奥で1根管になっている。この根管合流点より根尖側には根管充填材は到達していない。ガッタパーチャポイントとM T Aフィラペックスシーラーを使用しシステムBによる加熱加圧充填後のX線写真。遠心側の側枝にも充填されていることが認められる。EDTAでスメア層を除去し次亜塩素酸ナトリウム溶液で洗浄したのみではあるが、根尖側の細い側枝にもしっかりとシーラー及び軟化したガッタパーチャ充填材が入り込み封鎖できることがわかる。根管充填後3ヶ月のX線写真。術前にあった大きな根尖透過像は縮小していることがわかる。主根管の機械的拡大による感染除去が治癒に大きく貢献していることが推測できるが、複雑な根尖部根管にMTAフィラペックスシーラーが入り込み高い封鎖性により細菌の栄養源をシャットアウトし抗菌効果が作用したことも考えられる。※MTAフィラペックスに、システムBのプラガー先端が直接触れないようにご使用ください。